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高端光刻設(shè)備的中國制造制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，芯片西方中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)差距。

由此可見，存年差距成關(guān)只能采用相對落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，

目前最先進(jìn)的設(shè)備光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的中國制造情況下